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    掩?;鍜伖鈾C

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    主要應用于半導體集成電路的高平坦度的電子設備用基板,該設備提供一種新的掩?;鍜伖夂椭圃旆椒?。

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    主要應用于半導體集成電路的高平坦度的電子設備用基板,該設備提供一種新的掩?;鍜伖夂椭圃旆椒?。

    優勢


    1.雙區可控加壓拋光頭;
    2.可實現拋光模和工件的原位檢測;
    3.具備缺陷修復功能單元;
    4.獨立供液管路;
    5.國產化率100%;

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