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    化學機械拋光單模組

    化學機械拋光單模組

    基于晶圓的拋光設備,利用柔性拋光頭承載晶圓在拋光墊上旋轉拋光。設備具有高度兼容性,可以通過修改RECIPE變更加壓壓力??赏ㄟ^最多3種化學液的配合下實現化學機械拋光。

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    基于晶圓的拋光設備,利用柔性拋光頭承載晶圓在拋光墊上旋轉拋光。設備具有高度兼容性,可以通過修改RECIPE變更加壓壓力??赏ㄟ^最多3種化學液的配合下實現化學機械拋光。

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    優勢

    1、具有氣囊背壓功能,可兼容多區加壓拋光頭;

    2、靈活RECIPE設定,高質量的SFQR和ESFQR;
    3、可兼容6或8寸拋光頭,便捷更換式拋光盤;
    4、 可使用摩擦力重點檢測或光學終點檢測功能;

    5、3路獨立供液管路;

    6、占地面積??;

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